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低頻放電


低頻放電的頻率一般在50~500KHz,其原理是在電極間利用低頻電場激發(fā)產(chǎn)生等離子體,這種方式在材料表面改性中大量應(yīng)用。低頻放電由于交流電場作用,其放電電壓遠(yuǎn)低于直流放電,并且隨著頻率的提高放電電壓和維持電壓降低,低頻放電的放電模式與頻率相關(guān),頻率較低時,和直流輝光放電類似,此時電子和離子移動距離短,電離度低;當(dāng)頻率提高到一定數(shù)值,電子和離子在電極間振蕩運動,移動行程增大,與氣體分子發(fā)生碰撞的機(jī)率增大,電離度提高。目前市面所售的等離子清洗設(shè)備有低頻放電方式,頻率為40KHz,低頻放電符合輝光放電的特性,與射頻放電相比,電流很小,不存在阻抗匹配的問題,結(jié)構(gòu)簡單,多為電容耦合結(jié)構(gòu),因此電極的二次污染問題仍然存在。
 

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