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低溫等離子體表面處理儀

  • 產品型號：NE-PE10F
  • 性能特點：射頻電源，多層處理電極板
  • 產品用途：材料表面活化、改性
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低溫等離子體表面處理儀主要由供氣控制單元，真空室，等離子發(fā)生器，真空泵，等幾部分組成，通過電容式耦合射頻輝光放電的方式產生低溫等離子體。等離子體中含有豐富的離子、電子、自由基等活性粒子，可以對材料表面產生多種效應。在刻蝕和清潔作用的同時，等離子體中的活性粒子將羧基(-COOH)、羥基(-OH)等含氧功能基團引入材料表面，增強材料表面的活性位點，提升材料的表面能，實現(xiàn)材料的表面活化。
 

低溫等離子體表面處理儀工作流程：


設定低溫等離子體處理儀參數→樣品放入處理腔正極板上→打開真空泵→待真空度降至100Pa以下→開啟放電電源→處理完畢取出樣品

低溫等離子體表面處理儀真空室處理腔原理圖如圖1.1所示
 低溫等離子體表面處理儀真空處理腔原理圖
圖1.1 低溫等離子體表面處理儀真空處理腔原理圖
 

低溫等離子體表面處理原理：


等離子體改性高分子材料時，主要是其中的活性粒子起作用。這些活性粒子在高分子材料表面產生許多復雜的作用，包括刻蝕、交聯(lián)、表面刻蝕、產生自由基、引入極性基團等。

極性基團的引入
在等離子體表面處理時，高分子表面會形成大量自由基，與大氣中的氧接觸后則會發(fā)生氧化作用，形成親水性的基團。如羥基、羧基等，會使材料的親水性、粘結性得到改善，同時通過等離子體表面處理之后，聚合物表面的元素含量比例會發(fā)生比較明顯的變化。

等離子處理后還可以在聚合物表面引入各種極性基團，如NH3等離子體或N2和O2混合等離子體可以在高分子表面引入胺基、亞胺基或腈基等。

表面交聯(lián)
等離子體轟擊聚合物表面，可使聚合物表面產生自由基，正負電子，穩(wěn)態(tài)和亞穩(wěn)態(tài)的原子。其中電子、原子、自由基攻擊聚合物表面而移除聚合物表面的H原子而形成活性網點，聚合物表面的自由基活性點相互反應而形成表面交聯(lián)。

表面刻蝕
在等離子體處理過程中，等離子體中的活性粒子會高速撞擊到材料的表面，并造成刻蝕作用，使材料表面變得凹凸不平，增加材料表面的粗糙度?？涛g主要分為兩種，物理濺射和化學刻蝕。

低溫等離子體表面處理儀屬于干式處理設備，沒有化學改性中不可或缺的烘干、廢水處理等工序，具有工藝簡單、節(jié)約能源、綠色無污染等優(yōu)點。更重要的是，等離子體處理僅僅涉及材料淺表面，作用深度在納米級別，一般不會影響材料本身的整體性能。
型號 NE-PE10F低溫等離子體表面處理儀
射頻電源 13.56MHz
功率 0-300W可調
真空度 ＜30Pa
工藝氣體通道 兩路（標配，可定制多路）
腔體尺寸 長230mm×高175mm×深270mm
腔體材質 不銹鋼
外形尺寸 長600mm×寬530mm×高574mm

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