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等離子體處理技術(shù)原理及其作用

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2022-11-25
等離子體處理是一種干法加工技術(shù)。作為一種可顯著減少有毒化學(xué)污染的新型整理技術(shù),等離子體處理技術(shù)具有較廣泛的應(yīng)用前景。等離子體處理技術(shù)適用于改變材料表面的化學(xué)結(jié)構(gòu)和形貌。低壓等離子體處理技術(shù)廣泛用于材料的表面改性。在材料表面應(yīng)用等離子體表面改性處理可提高其表面性能。
等離子體處理設(shè)備

等離子體處理技術(shù)原理


在對(duì)材料表面等離子體處理過(guò)程中,等離子體產(chǎn)生的高能粒子和光子與基材表面發(fā)生劇烈的相互作用,這種相互作用通常表現(xiàn)為自由基化學(xué)反應(yīng)。通常可觀察到4種表面效應(yīng),即表面清洗、表面蝕刻、表面附近的分子交聯(lián)及表面化學(xué)結(jié)構(gòu)的改變。在一定程度上,每種效應(yīng)都可能存在,但其中某種效應(yīng)可能比其他效應(yīng)更明顯,這取決于處理對(duì)象、氣體的化學(xué)性質(zhì),以及儀器型號(hào)與儀器參數(shù)的設(shè)置。幾種表面效應(yīng)單獨(dú)或協(xié)同作用,都會(huì)影響處理對(duì)象的黏附力。等離子體處理對(duì)提高材料之間的黏結(jié)強(qiáng)度有很好的效果。等離子體處理后黏附力的增大是由于處理后基材的潤(rùn)濕性提升及材料表面的化學(xué)結(jié)構(gòu)發(fā)生改變所致

等離子體

氣體在電磁力的耦合作用下產(chǎn)生等離子體介質(zhì),這種等離子體介質(zhì)包含離子、電子、中子、光子、自由基、亞穩(wěn)態(tài)激發(fā)粒子和分子,以及室溫的動(dòng)態(tài)混合,等離子體處理可使材料表面功能化且不影響其整體性能。這些等離子體粒子在電磁場(chǎng)作用下,梯度擴(kuò)散進(jìn)入基材的表面,從而產(chǎn)生各種通用的表面處理,包括鍵斷裂產(chǎn)生活性位點(diǎn)的表面活化、化學(xué)結(jié)構(gòu)和功能基團(tuán)接枝、材料揮發(fā)去除(蝕刻)、表面污染物或?qū)咏怆x(清洗),以及保形涂層的沉積等。等離子體的表面化學(xué)處理過(guò)程如圖1所示。
等離子體處理技術(shù)原理
圖1 等離子體的表面化學(xué)處理

等離子體處理對(duì)材料的作用


等離子體處理后材料表面發(fā)生巨大的化學(xué)和物理變化,包括:
———表面層化學(xué)性能的改變;
———表面層結(jié)構(gòu)的改變;
———表面層物理性能的改變;

電子碰撞和光化學(xué)作用的分子分離將產(chǎn)生包含高密度自由基的等離子體,其可導(dǎo)致材料表面化學(xué)鍵斷裂,從而在材料表面形成新的化學(xué)物質(zhì),這將導(dǎo)致材料表面化學(xué)結(jié)構(gòu)和形貌的改變,材料表面的比表面積將顯著增大。材料表面的等離子體處理將導(dǎo)致羥基(-OH)、醛基(-COH)及羧基(-COOH)等新的官能團(tuán)的產(chǎn)生,這些官能團(tuán)影響材料的潤(rùn)濕性并有利于分子的接枝處理。

等離子體獨(dú)特的物理、化學(xué)性質(zhì)及溫度范圍特性,使其成為材料表面處理的有效工具。等離子體低溫(避免破壞試樣)﹑干燥﹑環(huán)保及非平衡的等處理特性適用于新材料和新的研究領(lǐng)域的開(kāi)發(fā)。等離子體處理可獲得常規(guī)處理無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體可僅針對(duì)物質(zhì)表面(最上層)而非整個(gè)材料產(chǎn)生作用。處理過(guò)程的高成本可通過(guò)高附加值產(chǎn)品獲得回報(bào)。等離子體處理技術(shù)的應(yīng)用空間非常巨大。

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