等離子清洗機清洗不均勻有哪些可能原因
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-05-26
隨著技術(shù)水平的不斷更新迭代，以及各生產(chǎn)廠家對產(chǎn)品潔凈度要求的不斷提高，清洗工藝逐步由濕法向干法轉(zhuǎn)變。干法清洗通過氣體形成的等離子體在工件表面發(fā)生作用，不需要經(jīng)化學(xué)試劑浸泡，也不用烘干，過程更加潔凈安全。清洗過程也方便控制，工作環(huán)境及人員安全明顯改善，在成本有效減少的同時，產(chǎn)品成品率及優(yōu)品率也得到很大提高，目前已成為各半導(dǎo)體產(chǎn)品領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的技術(shù)。隨著等離子清洗技術(shù)的大量運用，等離子清洗機在清洗時有時也會出現(xiàn)清洗不均勻的現(xiàn)象，下面就讓我們一起來看下有哪些因素影響等離子清洗均勻性。
電極間距對等離子清洗均勻性的影響
電極的布局對等離子清洗的速度和均勻性有較大影響，較小的電極間距能夠?qū)⒌入x子體限制在狹小的區(qū)域從而獲得較高密度的等離子體，實現(xiàn)較快速度的清洗。隨著間距的增加清洗速度逐漸下降但均勻性逐漸增強。
圓孔極板可提高等離子體清洗的均勾性
出現(xiàn)上述現(xiàn)象的原因：一方面是由于大量等離子體通過圓孔極板到達極板下方形成下游等離子體，這使得等離子體的放電區(qū)域增加，從而降低了單位體積內(nèi)等離子體的吸收功率密度；另一方面，分布在極板上的圓孔改變了等離子體內(nèi)部的電場分布，使得等離子體內(nèi)部電場分布更加均匆。而等離子體的內(nèi)部電場對等離子體的均勻性有非常重要的作用、因此，提高等離子體內(nèi)部電場的均勾性，有利于于提高等離子體的均勻性。
極板數(shù)量對等離子清洗均勻性的影響
在放電功率不變的情況下，增加極板的數(shù)量可提高等離子體的均勾性，但降低等離子體的電子溫度、電子密度和電子能量密度。因此，多對放電極板不僅提高等離子體的均勾性，還成倍的增加了基片的裝載量，可大大提高產(chǎn)能，尤其適用于實際生產(chǎn)中，具有廣泛的應(yīng)用前景。
功率對等離子清洗均勻性的影響
高功率只能獲得低均勾性的等離子體。這主要是由于±加等離子體的放電功率，等離子體在極 板邊緣附近產(chǎn)生了更強的自感電場，使得等離子體內(nèi)部電場變得更不均匆， 從而降低了等離子體的均勻性。
氣體流向?qū)Φ入x子清洗均勻性的影響
工藝氣體流向決定工藝氣體在清洗倉體中的整個氣流覆蓋區(qū)域，進而決定離子體具體位置，對待清洗工件清洗效果有根本性的影響。在設(shè)計時，合理控制倉體中的氣體流向就對清洗效果顯得尤為重要，進出氣口的多少、位置直接決定了倉體內(nèi)的氣體流向，也直接影響了待清洗工件的清洗效果。
在等離子清洗的過程中，有效地控制倉體內(nèi)部工藝氣體的流向，讓氣體均勻地充滿整個倉體，在射頻電源的激發(fā)下，形成的離子體也在倉體內(nèi)部均勻分部，對待清洗工件的清洗均勻性及優(yōu)良性有大幅度改善。拿半導(dǎo)體料盒清洗來說，應(yīng)該讓料盒的排布順應(yīng)氣體的流向，讓氣體均勻流通在料盒的各個位置，有利于獲得封裝組裝工藝的高質(zhì)量控制。
以上就是國產(chǎn)等離子清洗機廠家納恩科技，關(guān)于等離子清洗不均勻有哪些可能原因的簡單介紹，對提高等離子清洗均勻性提供了一定的改進方向 。提高等離子清洗均勻性的最佳方法是減小電場的邊緣效應(yīng)。圓孔極板可獲得均勻性最高的等離子體，但同時會降低等離子體的電子溫度、電子密度和電子能量密度；增加放電極板數(shù)量，可提高等離子體的均勾性和基片產(chǎn)能，但降低了等離子體的電子溫度、電子密度和電子能量密度；增加極板間距，可增加等離子體的均勻性。另一方面，放電參數(shù)對等離子體的影響結(jié)果也進一步證實了，等離子體的內(nèi)部電場分布影響著等離子體的均勾性。髙功率可產(chǎn)生較強的邊緣效應(yīng)，使得等離子體的均勻性較低，但等離子體的電子密度和電子能量密度較高；氣壓對等離子體的內(nèi)部電場影響較小，對等離子體均勻性影響較小，隨著氣壓的增加，電子溫度、電子密度和電子密度先增加后降低。
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