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2L小型真空等離子清洗機(jī)

  • 產(chǎn)品型號:NE-PE02
  • 性能特點:清洗效果好,清洗效率高
  • 產(chǎn)品用途:清潔、灰化、刻蝕
  • 產(chǎn)品介紹
  • 產(chǎn)品參數(shù)

小型真空等離子清洗機(jī)具有清潔、灰化、刻蝕等功能,可用來清潔納米級樣品,去除光刻膠,清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤,進(jìn)行煤和有機(jī)物的灰化,激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團(tuán),獲得表面親水性,提高鍵合強度和可印刷性,促進(jìn)醫(yī)療器械生物相容性。
 

小型真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品優(yōu)勢:
 

 ●小型等離子清洗機(jī)清洗效果好,清洗效率高,功率大,應(yīng)用范圍廣。

 ●直觀的觸摸屏用戶界面,可儲存多條用戶程序,全自動運行

 ●8K 鏡面不銹鋼腔體,卓越密封性

 ●可支持 13.56 MHz 射頻發(fā)生器,自動阻抗匹配調(diào)諧

 ●支持各種工藝氣體,包括氬氣,氧,氫,氦和氟化氣體

 ●對清洗樣品,沒有任何材質(zhì)、外觀尺寸等要求。

 ●等離子清洗過程中,溫升很小,基本可達(dá)到常溫處理。

 ●高效的特制電極,是產(chǎn)生均勻等離子體的保證。

 ●特制電極和托盤結(jié)構(gòu),可保證樣品可得到全面有效的清洗。

 ●由于功耗低且無需特殊處理氣體,該裝置是提高表面潤濕性和附著力的非常經(jīng)濟(jì)高效的解決方案。
 

小型真空等離子清洗機(jī)用途:
 

 ●高分子材料表面改性粘合性、親水性能提高。

 ●晶圓光刻膠灰化、剝離和除渣。硅晶片的有機(jī)污染物去除

 ●用于 PDMS 鍵合、載玻片、芯片實驗室和其他微流體應(yīng)用的等離子處理

 ●材料表面改性(金屬、聚合物、薄膜、陶瓷等)。

 ●材料表面有機(jī)污染物去除。

 ●清潔TEM和SEM樣品,去除烴污染

 ●增強環(huán)氧樹脂/膠水粘合強度

 ●用于清潔光學(xué)、激光、通訊用玻璃和光纖頭

 ●改善MEMS微流體器件的潤濕性

 ●隱形眼鏡、醫(yī)用植入物等類型醫(yī)療器械的表面處理和激活

序號 項目 型號規(guī)格 參數(shù)
1 等離子發(fā)生器 功率 0-300W可調(diào)
抗輻射干擾高頻匹配器 自動阻抗匹配,遠(yuǎn)程通信控制
頻率 40KHz/13.56MHz
2 真空反應(yīng)腔室 腔體材質(zhì) 進(jìn)口 316 不銹鋼,軍工級密封
腔體容積 2L
電極數(shù)量
1 個鍍金鋁合金專用電極+1 個不銹鋼
托盤
腔體直徑(圓形) 100(W)×270(D)mm
有效處理范圍 80(W)*235(D)mm
絕緣陶瓷 進(jìn)口高頻陶瓷
3 氣路控制 氣體流量控制器 浮子針閥流量控制器, 0-500ML
氣路數(shù)量 2 路氣體通道,支持氧氣氬氣等
4 整機(jī)參數(shù) 整機(jī)功率 1000W
外形尺寸
長*寬*高 : 600mm(L)×450mm(W)
×450 mm(H)

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