等離子清洗機氬氣和氧氣的區(qū)別?哪種好?
文章出處:等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2022-08-22
在等離子清洗過程中會使用不同的氣體來進行清洗,其中最常見的兩種工藝氣體就是氬氣和氧氣了。很多不知道等離子清洗原理的人都喜歡問,用氧氣和用氬氣有什么區(qū)別,氧氣和氬氣哪種氣體好。今天就這一個問題,作為生產(chǎn)等離子清洗機的廠家,有責(zé)任和義務(wù)為大家解答一下這個問題。
首先我們要了解等離子清洗機的工作原理,等離子清洗機是通過將各種氣體摻入真空室體,將室內(nèi)壓力控制在設(shè)定的范圍內(nèi),通過控制加載在真空室內(nèi)高壓極板間的電壓,將氣體電離,產(chǎn)生輝光放電,真空室內(nèi)的高能等離子轟擊工件,工件表面的分子激發(fā)、離解或電離,去除氧化物、水分和有機污物,增強襯底結(jié)合力。
等離子清洗機所用的氣體大致上可以分為兩種,一種是通過物理濺射來對材料表面進行清洗,另一種是靠化學(xué)反應(yīng)來對材料表面進行清洗。
物理性氣體等離子清洗
在真空狀態(tài)下,高頻電源的高壓交變電場將氬氣等惰性氣體電離成高能量的等離子氣體?;钚粤W釉谄珘鹤饔孟卤患铀佼a(chǎn)生動能,設(shè)備射頻系統(tǒng)的下電極接地,確保所有的高能電子不能穿越電極接觸到工件表面,避免對敏感器件造成電子損傷。只有中性原子團下電極高速轟擊工件表面,使污染物汽化,與工件剝離,隨排氣系統(tǒng)排出腔體外,產(chǎn)生清洗效果。由于是靠純物理撞擊方式剝離污染物,此方法適合對各類污染物進行去除。
等離子清洗原理示意圖
反應(yīng)性氣體等離子清洗
在真空狀態(tài)下,高頻電源的高壓交變電場將氧氣、氫氣等反應(yīng)性氣體電離成高能量和高反應(yīng)性的等離子氣體。這些高活性基團被吸附在工件表面,與表面污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生產(chǎn)其他氣體并脫離工件表面,隨排氣系統(tǒng)排出。O2適合對助焊劑等有機類污染物進行處理,H2適合處理金屬氧化物。
等離子清洗機氬氣和氧氣的區(qū)別
相信通過以上講解,大家都對等離子清洗機所使用的氣體有了一個大致了解,接下來對等離子清洗氬氣和氧氣的區(qū)別就很明了了,氬氣屬于惰性氣體,一般在清洗中承擔物理轟擊的作用,氧氣屬于反應(yīng)性氣體,在清洗中承擔著化學(xué)反應(yīng)的作用。
等離子清洗機氬氣和氧氣哪種氣體好
等離子清洗工藝中,氬氣和氧氣兩種氣體作用是不一樣的,并沒有說哪種氣體好這種說法,對應(yīng)不同的工藝要選擇最適合它的氣體,大部分情況下氧氣和氬氣是同時使用的,這樣清洗效果會更快也更好。
采用等離子清洗工藝時應(yīng)對等離子清洗原理有一個大致了解,這樣在選擇工藝氣體時才不會無所適從,不知道選擇哪種好。