等離子清洗在納米壓印玻璃晶圓清洗中的應(yīng)用
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-04-28
微納米加工技術(shù)作為一種典型的先進制造技術(shù)，其制造精度可達到納米級別，在小型甚至微型元器件、微型芯片及生物傳感器的制造、批量化生產(chǎn)中具有不可取代的作用。納米壓印技術(shù)作為新型的光刻技術(shù)，具有成本低、分辨率高、效率高、制造流程便捷等優(yōu)點。
納米壓印工藝流程
納米壓印是納米壓印生產(chǎn)整體流程中最為核心，也是難度最高的環(huán)節(jié)，整體分為2個部分：子版制作和晶圓玻璃壓印。
1、子版制作（軟膜制作）
由于光柵母版制作成本高，所以不能直接用做生產(chǎn)。因此，必須將光柵母版的結(jié)構(gòu)一比一轉(zhuǎn)印到不易損壞的子版上，進而復(fù)制出多個子版。這就是子版制作環(huán)節(jié)。首先，需要先制作出光柵母版，然后對母版進行清洗和表面抗粘處理。最后，使用柔性基材進行軟膜壓印、固化、脫膜。通過以上操作，便可復(fù)制出多個子版。
2、晶圓玻璃壓印
子版制作完成后，即可開始進行晶圓玻璃壓印。經(jīng)過晶圓清洗、旋涂勻膠、納米壓印、固化、脫模等流程，便可將子版上的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到晶圓上面，完成批量生產(chǎn)。
在正式使用模板進行壓印工藝之前，在壓印基底表面涂覆表面性能優(yōu)異的壓印膠薄膜是保證壓印品質(zhì)的關(guān)鍵。常用的涂膠方式主要有：旋涂法、滾動法、提拉法以及噴霧法。與基底表面涂膠前，對基底進行徹底的清洗是必須的，以防止壓印過程中發(fā)生脫膠現(xiàn)象。
等離子清洗玻璃晶圓基底
紫外納米壓印流程
由于晶圓在加工過程中，會與各種有機物、粒子及金屬接觸并產(chǎn)生污染物，所以在晶圓涂膠之前需要對其進行清洗。一般采用等離子清洗的方式對晶圓表面進行清洗，通過等離子清洗,一方面清除了表面顆粒無、有機污染物,得到一個清潔的晶圓表面,另一方面改善了晶圓表面的親水性，清潔的晶圓表面更有助于與壓印膠之間的粘附性。
等離子清洗晶圓
等離子清洗技術(shù)利用等離子體內(nèi)活性分子來清洗晶圓表面。等離子清洗原理與超聲兆聲等濕法清洗不同，在接近真空的環(huán)境下，通過射頻電源使內(nèi)部殘余氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體，這些等離子體在電場下加速，之后做高速運動，和被清洗的晶圓表面發(fā)生物理碰撞，將表面的污染物去除。
等離子清洗無需清洗劑，空氣就能夠產(chǎn)生等離子體，操作工藝簡單無污染，而且等離子體清洗不但可以清洗晶圓表面，還可以提高表面活性，提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，親水性等，優(yōu)勢十分明顯，因此等離子清洗在納米壓印行業(yè)中應(yīng)用前景極其廣泛。
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