等離子體清洗機四大主要作用
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-12-27
等離子體清洗機(PlasmaCleaner)可在真空環(huán)境下通過對氣體施加較高能量使其轉(zhuǎn)化為等離子狀態(tài)，組成等離子狀態(tài)的活性組分有離子、電子和活性基團等，這些活性組分對試件表面進行“轟擊”，起到表面清潔、改性等作用。
等離子體清洗機主要具有以下四大作用
1、表面清洗作用
當(dāng)?shù)入x子體與被清洗物體表面相互作用時，一方面利用等離子體或者是等離子激活的化學(xué)活性物質(zhì)與材料表面污物進行化學(xué)反應(yīng)，如用等離子體中的活性氧與材料表面的有機物進行氧化反應(yīng)。等離子體與材料表面有機污物作用，把有機污物分解為二氧化碳、水等排出。另一方面利用等離子的高能粒子對污物轟擊等物理作用，如用活性氬等離子體清洗物件表面污物，轟擊使其形成揮發(fā)性污物被真空泵排出。
2、表面刻蝕作用
原本較為平滑的材料經(jīng)過等離子體的處理后，材料表面會因等離子體的刻蝕作用而變得粗糙，會出現(xiàn)一些深淺不一的裂紋，材料表面的化學(xué)鍵被打斷，形成自由基，自由基可以與其他化學(xué)鍵重新結(jié)合。因為刻蝕使材料的表面不再光滑，凹凸不平的表面使樣品表面面積增大，從而也改善了材料表面的潤濕性能。
3、表面活化作用
等離子體在處理材料的過程中會產(chǎn)生活性原子、自由基和不飽和鍵，等離子體中的活性粒子和空氣與帶自由基的聚合物接觸反應(yīng)，生成了新的活性基團。在氧和分子鏈段的運動作用下，帶有活性基團的分子會向表面下方移動，導(dǎo)致表面會失去活性，這說明經(jīng)過等離子體處理后的表面活性具有一定的時效性。
4、表面接枝聚合作用
將惰性氣體充入密封的等離子體清洗機中，當(dāng)電源放電時，等離子體對高分子材料表面進行處理，處理后的材料表面會產(chǎn)生交聯(lián)結(jié)構(gòu)。在激發(fā)態(tài)粒子、電子和光子的作用之下，由于相互的碰撞和沖擊，會產(chǎn)生一系列的化學(xué)變化，導(dǎo)致材料表面的化學(xué)鍵發(fā)生分裂，從而形成自由基。在沒有其他反應(yīng)物質(zhì)參與的情況下，材料會與自由基重新結(jié)合，形成了相互交聯(lián)的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。在反應(yīng)過程中，物質(zhì)的單鍵斷裂并形成雙鍵，產(chǎn)生交聯(lián)結(jié)構(gòu)，從而達到改善材料表面性能的目的。
以上就是等離子清洗機廠家納恩科技關(guān)于等離子體清洗機四大主要作用的介紹，等離子清洗技術(shù)在多個工藝領(lǐng)域均能實現(xiàn)運用，很多時候能達到事半功倍的效果，其中應(yīng)用較多的工藝有：粘接、印刷、封裝等預(yù)處理。
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