Plasma等離子清洗機(jī)的分類(lèi)
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2023-12-14
等離子體（plasma）英譯過(guò)來(lái)的含義是電漿，因?yàn)樗且环N含有自由電子、激發(fā)態(tài)粒子、亞穩(wěn)態(tài)粒子、基態(tài)粒子、離子和自由基的電離的導(dǎo)電氣體。當(dāng)物質(zhì)溫度升高或受到高能粒子轟擊、激光照射、強(qiáng)電磁場(chǎng)電離等時(shí)，核外電子脫離原子核束縛，形成由電子、離子、受激原子、分子、中性自由基組成的物質(zhì)狀態(tài)，這種電離物質(zhì)整體上保持電中性，稱(chēng)為等離子體。
根據(jù)等離子體產(chǎn)生的真空度，可以分為大氣壓等離子體和低氣壓等離子體，所以plasma等離子清洗機(jī)常見(jiàn)的又分為兩類(lèi)，大氣plasma等離子清洗機(jī)，低氣壓plasma等離子清洗機(jī)。
低氣壓plasma等離子清洗機(jī)又分為：例如容性耦合等離子體(CCP)等離子清洗機(jī)，感性耦合等離子體(ICP)等離子清洗機(jī)，它們一般需要金屬容器反應(yīng)器并接入機(jī)械泵和分子泵抽真空，因此相比于大氣壓等離子體，產(chǎn)生條件更為苛刻，經(jīng)濟(jì)成本較高。但是，低氣壓等離子體中電子的平均自由程比大氣壓等離子體電子平均自由程小很多，導(dǎo)致等離子體電離程度更高。
大氣壓plasma等離子清洗機(jī)則是在常壓環(huán)境（1atm,101.325kPa）下產(chǎn)生的等離子體，在常壓環(huán)境下，因?yàn)榱Ｗ用芏却?，電子的平均自由程相?duì)較短，阻礙了電子獲得更高的能量。因此，在大氣壓下形成的等離子體與在低氣壓下形成的等離子體相比，需要的擊穿場(chǎng)強(qiáng)會(huì)大得多。但大氣壓等離子體不需要復(fù)雜且昂貴的真空系統(tǒng)作為輔助設(shè)備，降低了反應(yīng)裝置的成本和工藝的復(fù)雜性，提高了表面處理效率，是一種具有工業(yè)應(yīng)用前景的氣體放電方法。
傳統(tǒng)工業(yè)中的等離子體應(yīng)用主要以低氣壓等離子體為主（如表面改性，刻蝕等），因?yàn)榕c高氣壓相比，低氣壓下電子的平均自由程更大，電子更容易在電場(chǎng)中加速獲得更高的能量，所以等離子體在低氣壓下更容易產(chǎn)生，也更穩(wěn)定，但是需要復(fù)雜且昂貴的真空輔助設(shè)備。
以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)納恩科技關(guān)于plasma等離子清洗機(jī)的分類(lèi)介紹，一般plasma等離子清洗機(jī)按照等離子體產(chǎn)生的氣壓環(huán)境主要分為低氣壓plasma等離子清洗機(jī)，和大氣壓plasma等離子清洗機(jī)兩種。
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