脫模劑等離子清洗原理
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2023-03-23
等離子應(yīng)用于清洗物體表面的污物，由于應(yīng)用等離子清洗所需的介質(zhì)一般由氫氣、氧氣、氫氣等組成，且清洗后生成的產(chǎn)物多為CO2、H2O等無污染的氣體，相對(duì)于濕法清洗工藝省去了干燥過程及廢水處理裝置，所以應(yīng)用其進(jìn)行大面積的表面處理是一種既經(jīng)濟(jì)又環(huán)保的方法。實(shí)踐證明，等離子清洗工藝可以有效的解決因脫模劑而導(dǎo)致的涂裝質(zhì)量不達(dá)標(biāo)的問題。無論是從未來生產(chǎn)工藝前瞻性,還是當(dāng)前生產(chǎn)遇到問題的直接性，都需要引入等離子清洗這種高新清洗技術(shù)用以解決上述問題，提高生產(chǎn)工藝及生產(chǎn)質(zhì)量。
等離子清洗原理
等離子體是由正離子、負(fù)離子和自由電子等帶電粒子和不帶電的中性粒子如激發(fā)態(tài)分子以及自由基組成的部分電離的氣體。在電子清洗中，主要是低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機(jī)氣體在高頻低壓下被激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子和自由基等多種活性粒子。這些活性粒子能與表面材料發(fā)生反應(yīng)，從而達(dá)到清洗的目的。
有機(jī)脫模劑的主要成分為有機(jī)物，在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的共同作用下，脫模劑最終被氧化成水和二氧化碳分子，并從物體表面被清除。等離子體中的活性氧與材料表面的脫模劑進(jìn)行氧化反應(yīng)。圖1是氧等離子體清洗過程原理圖。
圖一 氧等離子清洗脫模劑原理圖
等離子清洗工藝可以有效的去除材料表面殘留的脫模劑并提高表面活性，增強(qiáng)涂層與基體之間的附著性能，確保了材料表面涂裝的可靠性。
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