40KHz中頻等離子清洗機和13.56MHz高頻等離子清洗機的區(qū)別
文章出處:等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2022-05-01
等離子清洗是一種干法物理化學清洗技術。它是利用低真空狀態(tài)下工藝氣體因電場的作用,產(chǎn)生輝光放電,將工藝氣體電離成離子流,轟擊工件表面,使其產(chǎn)生物理化學反應,達到清洗目的。等離子清洗機按其等離子激發(fā)頻率可分為:中頻(40KHz)、高頻(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三種等離子清洗機,隨著頻率的升高,離子濃度增大,離子能量下降。中頻40KHz等離子清洗機主要應用于污染較重,且不易受到損傷的元件(如外殼、成膜基板、焊片等),其中主要是離子的物理撞擊作用(物理清洗),化學清洗作用其次。微波等離子清洗機主要應用于敏感器件(半導體芯片,特別是微波器件),這時主要是離子化學反應。而13.56MHz射頻等離子清洗機的應用則介于上述兩者之間,兼具化學和物理清洗。
13.56MHz射頻等離子清洗機與40KHz中頻等離子清洗機的區(qū)別如下:
目前市面所售的等離子清洗機有低頻放電方式,頻率為40KHz,低頻放電符合輝光放電的特性,與射頻放電相比,電流很小,不存在阻抗匹配的問題,結(jié)構(gòu)簡單,多為電容耦合結(jié)構(gòu),因此電極的二次污染問題仍然存在。
高頻放電的頻率一般為10M~100MHz,這一頻率屬于無線電頻譜范圍,因此又稱為射頻(RF)放電,根據(jù)國際通用的規(guī)則射頻放電的頻率為13.56MHz。射頻放電能產(chǎn)生和維持高密度、連續(xù)、均勻的等離子體,高頻放電時,由于頻率很高,帶電粒子在電場周期內(nèi)還未運動到極板,電場就發(fā)生了改變,帶電粒子在電場作用下向反方向移動,如此往復形成振蕩,因為粒子的運動行程很長,增加了與氣體分子碰撞的機率,電離度比直流輝光放電高出幾個數(shù)量級,而且可以在較低的電壓下維持。射頻放電在較高和較低的氣壓下都能放電,在工業(yè)中有不同應用。與直流放電相比,射頻放電有以下優(yōu)勢:
1. 較低的氣壓條件下仍能放電,放電維持能量低,由于帶電粒子在極間做往復運動,大大增加了電離機率,因此在較低的氣壓條件下仍能夠維持放電,形成穩(wěn)定的等離子體,最低壓強可達10-1Pa。
2. 射頻放電的粒子運動機制決定了具有較高的電離度。
3. 等離子體分布均勻。
綜上所述40KHz中頻等離子清洗機的作用主要為物理撞擊反應,其撞擊力度大,對被清洗表面影響最大;13.56MHz射頻等離子清洗機主要為物理加化學反應(需要采用氧氣、氫氣、氬氣等氣體,如采用單獨氬氣則為單獨物理反應),其撞擊力度適中,可以去除零件表面殘留的灰塵、一般氧化層等雜質(zhì)。