等離子體弧清洗技術(shù)
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-05-23
等離子體弧清洗技術(shù)的基本原理是利用等離子體溫度高、能量密度大及氣氛可控等特點(diǎn),從等離子發(fā)生器中產(chǎn)生的自由電弧經(jīng)過(guò)機(jī)械壓縮、熱壓縮、自磁壓縮作用,使自由電弧變成不同直徑的等離子體弧柱,照射物品需要清洗的部位,使被照射的物質(zhì)發(fā)生振動(dòng)、熔化、蒸發(fā)、燃燒等一系列復(fù)雜的物理化學(xué)過(guò)程,最終脫離物品表面,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)表面污染物的清除。由于等離子體弧具有可控性,可以控制等離子體弧沿著一定的軌跡掃描,可以實(shí)現(xiàn)大面積清洗。
與傳統(tǒng)清洗工藝相比,等離子體弧清洗具有以下優(yōu)點(diǎn)：
（1）去污設(shè)備可以長(zhǎng)期使用,清洗過(guò)程中不需要使用有機(jī)溶劑,因而它的運(yùn)行成本較低；
（2）清洗后,被清洗物體己經(jīng)很干燥,不必再經(jīng)過(guò)干燥處理工序,所以清洗效率高不直接接觸工件,沒(méi)有機(jī)械作用力等離子體弧的方向性不強(qiáng),因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù),不必考慮清洗物體形狀的影響,清洗甚至可以達(dá)到原子級(jí)；
（3）它適合于大部分金屬及其合金,清洗可以去除氧化物、污染物、保護(hù)潤(rùn)滑劑、加工過(guò)程中的潤(rùn)滑劑等,特別是不耐溶劑的基底材料,而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗；
（4）等離子體弧清洗是一種干式清洗,不需要清潔液或其它化學(xué)溶液,不需要對(duì)清洗液進(jìn)行運(yùn)輸、貯存、排放等處理措施,清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,清潔度高；
（5）在完成清洗去污的同時(shí),可以除去晶間腐蝕,也可以使如折皺、裂紋等缺陷暴露和除去凹凸部分,在清洗過(guò)程中還能改變材料本身的表面性能；
（6）等離子體弧清洗通過(guò)控制工藝參數(shù),可以在不損傷基材表面的情況下,有效去除污染物。
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