等離子體弧清洗技術

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-05-23

等離子體弧清洗技術的基本原理是利用等離子體溫度高、能量密度大及氣氛可控等特點,從等離子發(fā)生器中產生的自由電弧經過機械壓縮、熱壓縮、自磁壓縮作用,使自由電弧變成不同直徑的等離子體弧柱,照射物品需要清洗的部位,使被照射的物質發(fā)生振動、熔化、蒸發(fā)、燃燒等一系列復雜的物理化學過程,最終脫離物品表面,從而實現(xiàn)對表面污染物的清除。由于等離子體弧具有可控性,可以控制等離子體弧沿著一定的軌跡掃描,可以實現(xiàn)大面積清洗。

與傳統(tǒng)清洗工藝相比,等離子體弧清洗具有以下優(yōu)點：

（1）去污設備可以長期使用,清洗過程中不需要使用有機溶劑,因而它的運行成本較低；
（2）清洗后,被清洗物體己經很干燥,不必再經過干燥處理工序,所以清洗效率高不直接接觸工件,沒有機械作用力等離子體弧的方向性不強,因此它可以深入物體的微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務,不必考慮清洗物體形狀的影響,清洗甚至可以達到原子級；
（3）它適合于大部分金屬及其合金,清洗可以去除氧化物、污染物、保護潤滑劑、加工過程中的潤滑劑等,特別是不耐溶劑的基底材料,而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗；
（4）等離子體弧清洗是一種干式清洗,不需要清潔液或其它化學溶液,不需要對清洗液進行運輸、貯存、排放等處理措施,清洗后不會產生有害污染物,清潔度高；
（5）在完成清洗去污的同時,可以除去晶間腐蝕,也可以使如折皺、裂紋等缺陷暴露和除去凹凸部分,在清洗過程中還能改變材料本身的表面性能；
（6）等離子體弧清洗通過控制工藝參數(shù),可以在不損傷基材表面的情況下,有效去除污染物。