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等離子清洗技術(shù)和激光清洗技術(shù)及其區(qū)別

文章出處:等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2022-04-22
工業(yè)和高新技術(shù)的發(fā)展,物理清洗技術(shù)以其操作簡單、無毒害或污染小、無腐蝕等特點,漸漸地成為了現(xiàn)代工業(yè)清洗技術(shù)的主流,并逐步開始取代傳統(tǒng)化學(xué)清洗技術(shù)。物理清洗技術(shù)是利用聲、光、電、熱、力、物理射線等的物理作用,并施加于污垢處以破壞清除污垢,達到清洗效果的清洗技術(shù)。常用先進清洗技術(shù)有高壓水射流清洗技術(shù)、激光清洗技術(shù)、等離子清洗技術(shù)、超聲波清洗技術(shù)、干冰清洗技術(shù)等。工業(yè)清洗技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展中,物理清洗技術(shù)因其優(yōu)勢在工業(yè)清洗中占據(jù)了重要的地位。

等離子清洗技術(shù)


等離子體清洗技術(shù)是一種新型的表面清洗技術(shù),也是一種“綠色”的清洗技術(shù)。它在清洗過程中不需要化學(xué)試劑和清洗液的使用,因此也就避免了清洗過程中因清洗液的排放等造成對環(huán)境的污染。
等離子清洗

等離子清洗技術(shù)是利用等離子體內(nèi)的高能粒子的活化作用,使得工件表面的待清洗層上的有機物、氧化物等污垢以及各種粒子發(fā)生一系列的物理化學(xué)反應(yīng),從而從清洗表面脫落或蒸發(fā),從而達到清洗的作用。同時在合理的清洗工藝參數(shù)下,等離子清洗還會使得清洗表面的形態(tài)發(fā)生物理化學(xué)變化,并且也為表面引入一系列的自由基團,從而改善了被清洗表面的極性和親水性等特性。由于離子與工件的碰撞,使得該種清洗技術(shù)的去除效率為原子級別。該種清洗技術(shù)可用于工件的超精密清洗。

離子清洗技術(shù)的最大特點是適用于各種基材類型的清洗,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。除此之外,等離子清洗還具有以下幾個特點:①容易采用數(shù)控技術(shù),自動化程度高;具有高精度的控制裝置,時間控制的精度很高;②正確的等離子清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;③由于是在真空中進行,所以等離子體中的各種活性離子的自由程很長,他們的穿透和滲透能力很強,可以進行復(fù)雜結(jié)構(gòu)的處理,包括夾層、細管和盲孔;④等離子體作用過程是氣—固相干式反應(yīng),不消耗水資源、無需添加化學(xué)試劑,對環(huán)境無殘留物,具有綠色環(huán)保特征。因此,采用等離子清洗技術(shù)可以克服傳統(tǒng)方法中的缺陷,使清洗更符合環(huán)保原則。并且經(jīng)過等離子清洗的產(chǎn)品材料還會發(fā)生性質(zhì)的改變,比如親水性,粘接性能等。


激光清洗技術(shù)


激光清洗技術(shù)同等離子清洗技術(shù)一樣,屬于干法清洗的范疇。它是利用高能激光束對工件待清洗表面進行照射,使得清洗層的顆粒、污物以及油漆等表面污染物那件發(fā)生蒸發(fā)或從表面脫離,從而達到對工件表面進行潔凈處理的目的。和傳統(tǒng)的清洗工藝相比,激光清洗技術(shù)適用的污染物中種類和適用范圍更加的廣泛.但由于在進行清洗的過程中,激光清洗技術(shù)因激光光束的聚焦、傳輸和導(dǎo)入以及激光能量的吸收和轉(zhuǎn)換問題以及使用成本等問題使得激光清洗技術(shù)的推廣受到了限制。因而目前激光清洗技術(shù)主要用于微電子行業(yè)中,以及精密光學(xué)元件表面顆粒的清洗等領(lǐng)域。
激光清洗

與傳統(tǒng)清洗方法相比,激光清洗的優(yōu)點主要集中在:(1)清洗參數(shù)可調(diào),可實現(xiàn)精準清洗且清洗范圍廣泛;(2)清洗對基材的損傷小,保證清洗后基材性能不變;(3)“綠色”清洗方式對環(huán)境污染較??;(4)清洗效率高,成本低更易實現(xiàn)自動化。激光清洗技術(shù)的眾多優(yōu)勢使其更適應(yīng)今天的清洗行業(yè)發(fā)展,所具有的巨大潛力,必然會取代傳統(tǒng)清洗方式。

激光清洗技術(shù)激光清洗技術(shù)同等離子清洗技術(shù)一樣,屬于干法清洗的范疇。等離子清洗是一種比脈沖激光清洗或離子轟擊溫和得多的清洗技術(shù)。等離子體中的能量為eV的離子在撞擊電極表面時不會使材料濺射和再沉積。

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