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等離子表面處理提高氧化鋯陶瓷粘接性能

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2022-04-18
氧化鋯陶瓷修復(fù)體在牙科領(lǐng)域已得到了廣泛的應(yīng)用,如全瓷冠、冠橋、貼面、種植體等。氧化鋯在室溫下一般為單斜相,因而加入氧化釔來維持四方相,該四方相氧化鋯被稱為“釔穩(wěn)定的四方氧化鋯多晶”。與其他牙科陶瓷相比,釔-四方氧化鋯多晶具有良好的生物相容性、優(yōu)異的力學(xué)性能和光學(xué)性能,是一種極具發(fā)展?jié)摿Φ奶沾刹牧稀鹘y(tǒng)的氧化鋯陶瓷因半透性較差,美觀效果不佳,在美學(xué)修復(fù)區(qū)的應(yīng)用有所限制。近年來,出現(xiàn)了高透明氧化鋯以及超透明氧化鋯,能滿足前牙區(qū)的美學(xué)修復(fù),使得氧化鋯的使用更加廣泛,可用于全鋯冠、貼面、嵌體、粘接橋等,但單純氧化鋯無法獲得較好的化學(xué)粘接,粘接強(qiáng)度不足,臨床應(yīng)用受限。

在口腔醫(yī)學(xué)領(lǐng)域中,為了提高氧化鋯陶瓷的粘接性能,更好地將其應(yīng)用到牙科修復(fù)中,國內(nèi)外許多研究學(xué)者將等離子體材料表面改性技術(shù)引入到氧化鋯處理中,并且取得了顯著成效。

等離子表面處理

在材料表面改性應(yīng)用中,等離子體材料表面改性是各類方法中發(fā)展最快的,是材料研究領(lǐng)域的熱點(diǎn)。研究發(fā)現(xiàn),在等離子體材料表面改性中,等離子體中的活性物質(zhì)及高能粒子發(fā)揮著重要作用,它們與材料表面相互作用。具體來講,一方面,等離子體中具有許多高能帶電粒子,這些粒子所帶能量遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于一般物質(zhì)的化學(xué)鍵鍵能,因此,在電場作用下,這些高能帶電粒子能將材料表面原有化學(xué)鍵打開,并經(jīng)過重新組合形成具有新特性的化學(xué)鍵,從而使材料表面化學(xué)性質(zhì)發(fā)生改變;另一方面,等離子體中的高能帶電粒子不斷對材料表面進(jìn)行轟擊,刻蝕材料表面,使其表面粗糙化,同時依靠能量傳遞使材料表面能發(fā)生變化,最終達(dá)到材料表面改性目的。
等離子處理氧化鋯陶瓷處理時間以及保存時間對接觸角影響
等離子處理氧化鋯陶瓷處理時間以及保存時間對接觸角影響 

表面化學(xué)活性的激活和表面形貌的粗糙化是氧化鋯粘接性能提高的主要原因。等離子體中•OH等活性物質(zhì)和亞穩(wěn)態(tài)Ar原子、電子等高能粒子能夠清除氧化鋯表面污染物,降低疏水基團(tuán)(-CH2)相對含量,并與氧化鋯表面反應(yīng),提高含氧化學(xué)基團(tuán)(C=O)相對含量;同時在高能電子、電子激發(fā)溫度和亞穩(wěn)態(tài)Ar原子等作用下氧化鋯表面粗糙化。最終,在氧化鋯表面化學(xué)結(jié)構(gòu)成分和形貌的雙重作用下,氧化鋯粘接性能得到顯著提高。

等離子體表面處理(surfacemodificationbyplasma)通過高活性粒子將大分子鏈分裂成更小的粒子,打破C-H和C-C等化學(xué)鍵,通過化學(xué)還原作用溶解碎屑以達(dá)到清潔的效果,其表面形貌不發(fā)生改變,可以用于提高陶瓷表面的粘接強(qiáng)度。

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